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    Laser metal deposition on-line monitoring via plasma emission spectroscopy and spectral correlation techniques

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    LaserMetalDeposition.pdf (1.319Mb)
    Identificadores
    URI: http://hdl.handle.net/10902/21826
    DOI: 10.1109/JSTQE.2021.3075489
    ISSN: 1077-260X
    ISSN: 1558-4542
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    Autoría
    Valdiande Gutiérrez, José JuliánAutoridad Unican; Mirapeix Serrano, Jesús MaríaAutoridad Unican; Nin, Jaume; Font, Eloi; Seijas, Carlos; López Higuera, José MiguelAutoridad Unican
    Fecha
    2021-04-26
    Derechos
    © 2021 IEEE. Personal use of this material is permitted. Permission from IEEE must be obtained for all other uses, in any current or future media, including reprinting/republishing this material for advertising or promotional purposes, creating new collective works, for resale or redistribution to servers or lists, or reuse of any copyrighted component of this work in other works.
    Publicado en
    IEEE Journal of Selected Topics in Quantum Electronics, 2021, 27(6), 7701108
    Editorial
    Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc.
    Enlace a la publicación
    https://doi.org/10.1109/JSTQE.2021.3075489
    Palabras clave
    Optical sensor
    Laser metal deposition
    On-line monitoring
    Plasma spectroscopy
    Quality assurance
    Correlation techniques
    Macrographs
    Resumen/Abstract
    Plasma spectroscopic techniques focused on the analysis of the plasma background radiation have been studied to enable an efficient on-line monitoring of a laser metal deposition process. The influence of different process parameters and elements, such as laser power, process speed, powder feeding rate and different powder and substrate compositions has been analyzed by means of several experimental trials. The resulting cladding patch analyzes via visual inspection and macrographs have been correlated with their associated spectroscopic monitoring signals. These studies have indicated that on-line quality monitoring of the laser metal deposition process is feasible by means of the proposed solutions, avoiding the identification and use of plasma emission lines. The latter improves the computational performance and avoids, not only the identification of each emission line, but also their specific sensitivity to certain defects. Spectral correlation techniques have also been proposed for monitoring purposes, thus enabling a more quantitative analysis
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